Исследовательская группа под руководством доктора Вон Сок Чанга (Won Seok Chang), директора отдела исследований наноконвергенции и производственных систем Корейского института машин и материалов (KIMM), разработала цифровой литографический сканер, который регулирует режимы экспозиции в реальном времени, и интегрировала его в производственную систему R2R для непрерывного нанесения рисунка на гибкие подложки. Система сочетает технологию экспонирования на основе цифрового микрозеркального устройства (DMD) и сверхточное управление движением, позволяя в режиме реального времени компенсировать деформацию подложки и ошибки позиционирования.
В системе цифровой литографии R2R, разработанной KIMM, используется технология цифровой экспозиции на основе DMD для выборочного проецирования ультрафиолетового (УФ) света на определенные участки подложки. Для обеспечения непрерывной работы R2R исследовательская группа разработала специальный модуль экспонирования и сверхточную систему контроля перемещения полотна, обеспечивающую ширину линий менее 10 мкм.
Обычные системы цифровой литографии основаны на платформах со стадией сканирования, которые ограничивают область изображения размерами платформы. Гибкие подложки также часто приходится временно прикреплять к несущей подложке во время обработки и отсоединять после, что снижает производительность и увеличивает риск возникновения дефектов. В отличие от этого, разработанная система использует воздействие линейного луча на гибкие подложки непрерывно, когда они проходят по вращающемуся ролику. Используя визуальные измерения, система в режиме реального времени компенсирует деформацию основы и ошибки позиционирования, обеспечивая сверхточное формирование рисунка на движущемся полотне.
Технология устраняет необходимость в фотошаблонах, позволяя генерировать шаблоны и изменять их с помощью программного управления. Это повышает эффективность производства за счет сокращения времени и затрат на изготовление масок. Поскольку гибкие подложки можно непрерывно двигать и создавать рисунки без прикрепления к несущей подложке, система поддерживает непрерывное производство на больших площадях. Ожидается, что эта технология повысит производительность при создании гибкой электроники нового поколения и установит новую производственную парадигму для смежных отраслей.
Это достижение адаптирует технологии литографии, используемые в производстве полупроводников, к процессу R2R за счет безмасковой цифровой экспозиции.
Доктор Вон Сок Чанг подчеркнул: «Система цифровой литографии R2R является ключевой платформой для массового производства гибких электронных устройств. Мы ожидаем, что она будет использоваться в гибких печатных платах, гибкой электронике с высоким разрешением и полупроводниковой упаковке».
[Фото: Korea Institute of Machinery and Materials (KIMM) / Won Seok Chang]
