Ученые Физического института им. П.Н. Лебедева РАН представили установку контактной масочной литографии. Она позволяет значительно сэкономить время и ресурсы при создании штучных опытных образцов микроструктур. Литограф продемонстрировали на форуме «Микроэлектроника-2024», который прошел на федеральной территории Сириус с 23 по 27 сентября.

Литография (от греческого «lithos» — камень и «graphō» — писать) — это нанесение или вытравливание рисунка определенной формы на пластине.  Путем многократного применения литографии создаются элементы электроники, микроэлектроники и фотоники: металлические контактные дорожки, по которым идет ток или сигнал; волноводы; области легированных контактов. Для нанесения этого рисунка подложка покрывается специальным веществом — фоторезистом, после чего отдельные области засвечиваются. Затем, как и в фотографии, засвеченные области проявляются. Однако если в фотографии проявляется изображение, то в литографии проявляется вещество, и фоторезист смывается с засвеченных областей. После этого с подложкой можно проводить дальнейшие операции, например травление или осаждение металла. Если осадить металл на всю подложку, содержащую участки с фоторезистом и без него, а затем смыть фоторезист, то там, где он был, металл будет удален вместе с фоторезистом, а на оголенных областях металл останется. Таким образом, на подложке сформируется рисунок из металла. Так создаются проводящие дорожки.

Созданная в ФИАН установка контактной мини-масочной литографии позволяет быстро переносить рисунок с малых теневых масок на небольшие подложки, обычно используемые в научных исследованиях.

«Установка контактной масочной литографии — это лабораторное оборудование, которое позволяет просто, без долгих и дорогих индустриальных технологий, создать тестовую структуру. В нашей лаборатории мы работаем с материалами типа графена. Часто для получения значимых научных результатов нам требуется несколько десятков образцов с контактами к тонким слоям графена, полученным разными способами. Чтобы подвести несколько электрических контактов сложной формы к чешуйке графена, ширина которой сравнима с диаметром человеческого волоса, мы используем нашу установку», — рассказал младший научный сотрудник Физического института им. П.Н. Лебедева РАН Арслан Галиуллин.

Ученый добавил, что таким образом можно создать образец за несколько минут. Для этого используются заранее изготовленные маски.

«Конечно, наша установка не универсальна: она не предназначена для массового производства и не позволяет получать субмикронное разрешение. Однако оказалось, что мы сконструировали установку, которая интересна не только нам, но и соседним лабораториям, и даже исследовательским отделам производственных компаний со схожими задачами», — отметил Арслан Галиуллин.

Также на форуме «Микроэлектроника-2024» ученые ФИАН представили прототип установки проекционной безмасочной литографии, находящейся в активной стадии разработки. В отличие от установки контактной масочной литографии, она работает не по заранее заготовленным шаблонам, а засвечивает произвольный рисунок, заданный пользователем программно. Таким образом, эта установка позволит создавать методом фотолитографии более широкий класс изделий, в том числе маски для устройств, которые работают по шаблонам.

Новость подготовлена при поддержке Министерства науки и высшего образования РФ