Материалы портала «Научная Россия»

В МГУ разработали новый тип литографии

В МГУ разработали новый тип литографии
Новаторский способ получения наноразмерных структур разработали выпускники факультета наук о материалах МГУ

Бурное развитие микроэлектроники в последние годы повлекло за собой появление новых методик литографии для высокоточного производства наноразмерных структур. Широко известны фотолитография, в том числе в глубоком ультрафиолете, электронно-лучевая литография, использование атомно-силового микроскопа, рентгеновская и целый ряд других.

Выпускники факультета наук о материалах Московского государственного университета им. М. В. Ломоносова опубликовали статью в престижном журнале Angewante Chemie, в которой предложен новый тип бесконтактной литографии. Авторы назвали его электрохимической рентгеновской литографией (Electrochemical X-ray Photolithography).

Как передаёт портал «Нанометр», в этом методе сочетаются два важных процесса – электрохимический синтез новых планарных материалов с упорядоченной структурой на границе раздела твёрдой подложки и раствора, а также воздействие рентгеновского излучения. Длина волны такого излучения составляет всего лишь единицы ангстрем (что сопоставимо с параметрами кристаллических решеток в твёрдом теле), и это обуславливает высочайшее разрешение такой литографии.

Изобретатели получили структурированные слои электроосаждённого металлического никеля на плоской подложке кремния с напылённым слоем золота. В отличие многих других работ, было обнаружено существенное увеличение тока при осаждении никеля из электролита на подложку. Это было достигнуто при облучении рентгеновским излучением через кремниевую маску, расположенную на определённом расстоянии.

«Авторы объясняют эффект фотоионизацией подложки при воздействии квантов рентгеновского излучения и испусканием фотоэлектронов в объём электролита, что приводит к большой эффективности электрохимического восстановления ионов никеля вблизи такой поверхности. Потенциальное разрешение бесконтактного “переноса” изображения маски в слой металла может достигать десятков нанометров», – пишет автор портала.

Подобный метод наверняка найдёт применение в наноэлектронике и разработке функциональных наноматериалов.

 

Источник: «Нанометр»

литография материалы мгу нанотехнологии никель фнм мгу электрохимия

Назад

Социальные сети

Комментарии

Авторизуйтесь, чтобы оставить комментарий